美國國會兩大關鍵委員會主席週二（10）聯名致函國務院與商務部，呼籲進一步收緊對中國取得先進晶片製造設備的出口限制，警告現行管制漏洞恐危及國家安全。記者黃仁杰／編譯

美國國會兩大關鍵委員會主席週二（10）聯名致函國務院與商務部，呼籲進一步收緊對中國取得先進晶片製造設備的出口限制，警告現行管制漏洞恐危及國家安全。

[caption id="attachment_207185" align="aligncenter" width="1536"] 美國國會兩大關鍵委員會主席週二聯名致函國務院與商務部，呼籲進一步收緊對中國取得先進晶片製造設備的出口限制。（圖／AI生成）[/caption]

在一封跨黨派信函中，美國眾議院中國問題特別委員會主席 John Moolenaar 與眾議院外交委員會主席 Brian Mast 表示，中國正加速進口對先進晶片生產至關重要的海外設備，美方應推動「全面性、國家層級」的管制措施，涵蓋所有中國尚無法自主生產的關鍵半導體設備與零組件。

致函對象包括美國國務卿魯比歐（Marco Rubio）與商務部長盧特尼克（Howard Lutnick），兩人分別負責外交協調與出口管制執行，並由多名兩黨議員連署，包括眾院外交委員會首席少數黨議員 Gregory Meeks。議員們同時主張，應限制對中國境內既有晶片設備的維修與服務，認為相關技術支援對設備持續運作至關重要。

議員們也要求川普政府於一個月內說明，如何與盟友協調推動更廣泛、全面性的半導體設備出口管制戰略。

此次國會警告，正值中國在半導體領域出現技術突破之際。儘管北京仍面臨重大技術瓶頸，尤其在複製西方供應商所掌握的高精度光學系統方面仍具難度，但中國研發進展已引發華府高度關注。

去年 12 月，路透社報導指出，中國科學家在深圳一處高安全實驗室研發出一款原型設備，技術架構參考 ASML 的極紫外光（EUV）微影機。EUV 設備是生產最先進晶片的核心工具，廣泛應用於人工智慧、高階智慧手機及西方軍事系統。

美國長期試圖透過出口管制阻止中國取得關鍵晶片製造技術，但國會議員認為，現行措施仍存在漏洞，恐讓中國持續累積先進製程能力。

來源：路透社

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