中國半導體產業恐再遭重擊。美國國會正推動新法，擬禁止關鍵晶片製造設備出口至中國，其中鎖定的核心就是ASML的深紫外光（DUV）微影設備。

[caption id="attachment_212515" align="aligncenter" width="1536"] 美國國會正推動新法，擬禁止關鍵晶片製造設備出口至中國。（圖／AI 生成）[/caption]

根據美國參議院外交委員會釋出的資訊，跨黨派議員正推動《MATCH法案》，計畫全面限制DUV設備的「銷售與維修」，理由是相關技術可能被用於提升中國軍事能力。該法案也提議，將包括華為、中芯國際、華虹、長鑫存儲（CXMT）、長江存儲（YMTC）等中國半導體企業，納入類似實體清單的限制範圍，進一步阻斷其取得國際資源的能力。

事實上，在EUV設備早已被封鎖的情況下，DUV已成為中國晶圓廠唯一可行的先進製程工具。以中芯國際為例，目前透過多重曝光技術，搭配ASML的DUV設備，已能實現類7奈米製程（N+1、N+2）。而在記憶體領域，長鑫與長江存儲也高度依賴DUV設備來擴充產能。

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業界指出，若DUV出口進一步受限，將直接衝擊中國擴產計畫，拖慢其先進製程發展進度。儘管中國正積極發展本土設備，但目前仍主要停留在28奈米等成熟製程，與先進製程仍有明顯落差。

美國參議員Jim Risch表示，《MATCH法案》目的是強化出口管制，防止對手取得無法自行生產的「關鍵瓶頸技術」，並透過與盟友協調，封堵維修與特定企業規避管制的漏洞，以維持美國在AI競爭中的技術領先地位。

值得注意的是，中國市場對ASML的重要性不容忽視。根據公司最新財報，中國約占其整體營收近20%，且幾乎全數來自DUV設備銷售。若新法正式實施，ASML恐將失去這一大市場，地緣政治風險進一步升高。

隨著美中科技對抗持續升溫，DUV設備正成為新的戰略焦點。一旦禁令落地，不僅中國半導體產業將面臨重大挑戰，全球供應鏈格局也可能再次出現劇烈變動。