科林研發旗下Pulsus PLD系統擁有最高含量氮化鋁鈧（AlScN）薄膜技術，能有效強化消費類別和汽車元件的效能及功能，近年來與元件製造商深入合作，有望擴大科林研發特殊製程的沉積、蝕刻和單晶圓清潔產品市場。

記者／孫敬 Archer Sun

晶圓製造設備和服務供應商科林研發（Lam Research），近日宣布推出脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD）機，以利發展MEMS麥克風和射頻濾波器（Radio Frequency，RF）。

科林研發旗下Pulsus PLD系統擁有最高含量氮化鋁鈧（AlScN）薄膜技術，能有效強化消費類別和汽車元件的效能及功能，近年來與元件製造商深入合作，有望擴大科林研發特殊製程的沉積、蝕刻和單晶圓清潔產品市場。

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汽車元件效能良好與否關鍵：鈧

科林研發最新脈衝雷射沉積機，該硬體設備主要用於汽車鍍膜技術，主要使用密集雷射脈衝撞擊目標材料，使靶材被汽化，形成穩定、緻密的電漿羽流，並以薄層沉積在晶圓上，在製造過程追求高品質、均勻的薄膜以及精確控制厚度和應力至關重要角色。

對於下一階段欲發展的MEMS麥克風（將聲音轉換為電能的換能器）和射頻濾波器（多用於阻止特定訊號或頻率通過），科林研發表示RF濾波器透過增加網路能處理的頻段數量，同時改善每個使用者體驗，在5G、Wi-Fi 6和Wi-Fi 6E效能中具有一定的影響力。MEMS麥克風因具有高訊噪比（訊噪比越高，代表所產生的噪訊越少）而備受推崇，即使是低沉的聲音也能準確捕捉，這對於支援5G元件中的語音控制功能和降噪功能至關重要。

有鑑於此，科林研發這次推出的Pulsus，採用先進技術沉積高品質薄膜，可強化RF濾波器和MEMS麥克風效能，最關鍵的影響點在於薄膜中的鈧含量越高，元件的效能就會越好。Pulsus提供的薄膜至少含有40%的鈧，這些薄膜的特色是介電損耗低，壓電係數是目前濺射薄膜的兩倍，電能轉換最佳化，從而提高了射頻濾波器的靈敏度和MEMS麥克風的效能，進一步改善的壓電特性使無鉛的氮化鋁鈧（AlScN）取代鋯鈦酸鉛（PZT）成為可能。

科林研發指出，Pulsus的PLD功能，搭配科林研發的2300平台設計，可確保卓越的薄膜均勻性和品質，而每片晶圓的成本僅佔傳統沉積方法的一小塊，這種效率可以幫助晶片製造商提高製造良率並加速其產品路線圖的發展。

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