良率困境成轉機？三星重押2奈米 盼泰勒廠成全球反攻新據點
記者孫敬／編譯
三星晶圓代工事業正處於嚴峻的十字路口，由於過去在先進製程良率上頻頻受挫，加上與台積電、英特爾（Intel）的競爭日益激烈，三星表示將暫緩原訂的1.4奈米製程量產計畫，並將核心資源與發展重心，全面轉向2奈米製程，企圖在全球先進晶片製造的激烈戰局中找到新的突破口。
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三星積極佈局美國廠，力拚2奈米先行量產
三星晶圓代工部門長期以來，在先進製程的良率表現上飽受挑戰。從率先採用的3奈米GAA（Gate-All-Around）技術開始，良率問題就一直是規模化生產的阻礙，也導致該部門連續多個季度面臨虧損。最新消息指出，原先預計在2026年下半年啟動的韓國平澤二廠1.4奈米生產線計畫已確定延後，目前尚無明確的重啟時間表。
相比起來，三星對於2奈米製程（SF2）展現了較高的信心。內部消息透露，2奈米製程的良率已取得顯著改善，目標在2026年年底量產。除了在韓國本土加速2奈米技術的發展，三星也將目光投向了美國市場。公司計畫在2026年年初，搶先台積電部屬美國德州泰勒廠的2奈米產線。
根據相關報導，三星已開始為泰勒廠的2奈米生產線進行準備工作。在獲得美國政府「晶片法案」（CHIPS Act）補助下，越來越多科技巨頭傾向在美國本土採購晶片，三星希望能藉此機會提升其在美國市場的影響力，擺脫過去在美營運不如台積電的局面。目前傳出三星2奈米製程的良率已達到40%，雖然與台積電2奈米約60%的良率相比仍有進步空間，但若三星能在大規模量產前進一步提高良率，並成功在美國泰勒廠進行量產，勢必將使其在先進製程的競爭中更具實力，並有望吸引到更多國際大客戶，包括像NVIDIA和Qualcomm等指標性企業。
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