美光1γ製程報捷！首批LPDDR5X記憶體送樣 DRAM技術邁入新里程碑

記者孫敬／編譯

記憶體大廠美光（Micron）本週在投資人與財經分析師電話會議上宣布，已開始向客戶送樣其首批採用全新1γ（1-gamma）製程技術生產的LPDDR5X晶片。這項新製程導入了極紫外光（EUV）微影技術，不僅預期將帶來更高的效能效率，更重要的是，它標誌著美光已正式開始使用EUV微影技術生產DRAM晶片，此為其DRAM製造上的重要里程碑。

延伸閱讀：受惠HBM與資料中心需求強勁！美光財報與財測雙雙超預期

1γ製程帶來顯著提升：功耗更低、效能更強，並擴展全產品線

美光執行長桑賈伊（Sanjay Mehrotra）表示：「我們在1γ DRAM製程節點上取得了卓越的進展，其良率提升速度超越了我們在1β（1-beta）節點上創下的紀錄。」他進一步指出，本季度公司已完成了數個關鍵產品的里程碑，其中包括首批基於1γ製程的LP5 DRAM合格樣品出貨。

美光的1γ製程技術是該公司第6代10奈米級生產節點，與前一代1β製程技術相比DRAM功耗降低20%，同時提升15%的效能。此外，這項技術還將位元密度提高了30%，這是一項非常顯著的改進。一旦新DRAM晶片的良率達到與1β DRAM裝置相似的水準，這項技術有望轉化為相當程度的生產成本降低。

值得注意的是，美光基於1γ的LPDDR5X晶片並非該公司首款採用此技術的記憶體產品。今年稍早，美光已推出更高效能和更低功耗的16Gb DDR5-9200晶片。然而，美光本週並未提供這些DRAM晶片送樣進度的最新資訊。未來，美光預計將其第6代10奈米級DRAM製程節點應用於其全部記憶體產品組合，包括DDR5、LPDDR5X（現在可支援高達10.7 GT/s）、GDDR7，以及針對資料中心優化的產品。桑賈伊強調：「我們將在整個DRAM產品組合中利用1γ技術，從這項領先技術中受益。」

美光是最後一家採用EUV微影技術進行1γ製造的主要DRAM製造商。儘管美光尚未透露有多少層是透過EUV技術生產，但預計會將EUV保留給那些若不使用EUV將需要耗時多重圖案化（multi-patterning）的最複雜層。1γ製程仍結合了EUV與傳統的深紫外光（DUV）多重圖案化，同時引入了升級的高介電常數金屬閘極（high-k metal gate）和重新設計的後段製程（BEOL）電路。美光目前正在日本生產1γ DRAM，其首台EUV設備已於2024年投入使用，並計劃在日本和台灣擴大EUV產能。

資料來源：Tom’s Hardware

瀏覽 161 次