突破美國制裁 中國半導體界大佬籲打造「中國ASML」

記者許若茵／編譯

中國多位半導體企業高層與學界人士近日集體撰文呼籲，應集結全國力量開發中國版光刻機巨頭艾司摩爾（ASML），以突破美國限制中國7奈米以下先進製程的生產能力。

北方華創董事長趙晉榮、長江存儲董事長兼總裁陳南翔，以及華大九天董事長劉偉平等人，近日發表一篇論文，呼籲政府匯聚國家資源，整合各機構的技術突破，自2020年美中技術競爭加劇以來，半導體製造已成為關鍵戰場，美國正積極實施限制措施，阻止中國擴張7奈米以下的先進產能。

文章提及，「以光刻機為例，ASML的極紫外光（EUV）設備擁有10萬個零組件，由5000家供應商提供，ASML是整合者。」如何建立「中國的ASML」，讓被整合者跳出「名利」屏障，統一分配資金與人力資源，是相關部門應立即制定實施方案的迫切問題。

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他們表示，中國在EUV雷射光源、晶圓載台及光學系統等不同機構已取得突破性進展，但在第15個五年計畫期間，將這些組件整合為完整系統仍是必須解決的挑戰。文章還指出，電子設計自動化（EDA）軟體、矽晶圓及電子氣體等材料是需要國家級協調的關鍵瓶頸領域。

中國總理李強週四在全國人大會議上發表年度政府工作報告，報告中強調了國產晶片研發工作的突破，中國將半導體與航空、生物技術及低空經濟並列為新興產業的核心支柱。

資料來源：路透社