AI霸業時代推手 ASML極紫外光先進設備一肩扛起

記者黃仁杰／編譯

AI晶片龍頭輝達（NVIDIA）近年市值一路飆升，成為全球最有價值的科技公司之一，但這波AI浪潮能否成形，關鍵其實不只在晶片設計，而是在背後幾乎無可取代的設備供應商——荷蘭半導體設備大廠ASML。

ASML是全球唯一能量產極紫外光（EUV）微影設備的公司，這類設備被視為先進晶片製程的核心關鍵，負責在矽晶圓上刻畫極細微的電路圖樣。包括台積電為輝達代工AI晶片在內，幾乎所有最先進製程都離不開ASML的設備支援。

美國銀行（Bank of America）分析師史凱瑪（Didier Scemama）指出，ASML已成功將下一代EUV技術產業化，未來甚至可能在新世代微影技術形成實質壟斷地位，並成為本世代多項顛覆性科技發展的基石。該分析出爐之際，正值ASML公布2025年第四季財報，訂單金額大幅超出市場預期，進一步推升市場信心。

市調機構晨星（Morningstar）分析師科雷歐內羅（Javier Correonero）則直言，微影技術是所有晶片製造的「地基」，而ASML的設備幾乎參與了全球99%半導體的生產流程。其中，EUV設備更是AI晶片擴產不可或缺的核心。

目前ASML生產兩種EUV設備，一種是用於現行AI晶片量產的低數值孔徑（Low-NA）EUV，另一種則是更先進的高數值孔徑（High-NA）EUV，主要供晶片大廠進行次世代製程研發。以輝達最新的Blackwell架構為例，正是仰賴低NA EUV設備完成製造。

這些設備的運作過程極為複雜，透過高能雷射擊中真空環境中的液態錫滴，產生電漿並釋放EUV光，再經由極高精度的反射鏡與光罩，將電路圖樣縮小投射至矽晶圓上。最終，這些設備由台積電等晶圓代工廠採購，為輝達等晶片設計公司生產先進晶片。

相較之下，日本的尼康與佳能雖仍提供部分成熟製程用的微影設備，但在先進製程領域已明顯落後。科雷歐內羅直言，這些競爭對手在過去三十年的投資規模，僅占ASML的一小部分，如今要追趕幾乎是不可能的任務。

從財務面來看，EUV設備已成為ASML最重要的營收引擎。2025年第四季，EUV訂單金額達74億歐元，占整體訂單的一半以上；全年共售出48台EUV設備，貢獻116億歐元營收。市場推估，最新高NA EUV單價高達3.2億至4億歐元，低NA EUV也約2.2億歐元。

目前台積電、英特爾與三星電子已開始在實驗室測試高NA EUV設備，預期將於2027至2028年間正式導入量產，其中英特爾被看好成為首波採用者。

在AI需求持續擴大的背景下，ASML股價去年上漲36%，今年以來再漲逾三成，市值一度突破5,000億美元，成為歐洲極少數站上此門檻的企業。ASML也預期，2026年營收將進一步成長至340億至390億歐元，高於2025年的327億歐元。

市場普遍認為，只要AI基礎建設持續擴張，ASML在先進製程設備上的關鍵地位，短期內難以被撼動。

來源：CNBC