ASML曝光機成本高   台積電考慮不採用

編譯/莊閔棻

儘管全球最大的合約晶片製造商台積電,目前嚴重依賴荷蘭艾司摩爾(ASML)的傳統 EUV 機器,但該公司似乎不打算使用ASML下一代高數值孔徑極紫外光「High-NA EUV」曝光機,來開發名為A16 晶片的製造技術,該技術預計於 2026 年下半年開始開發。

總部位於荷蘭的ASML (台灣艾司摩爾) 是全球最大晶片微影設備市場的翹楚。圖取自 ASML官網

成本問題

據報導,雖然High-NA EUV工具將有助於將晶片設計縮小多達三分之二,但台積電必須權衡這一優勢與更高的成本問題,及 ASML 的舊技術是否更可靠且夠好。台積電高層張曉強表示,雖然台積電的 A16 工廠可能會採用高數值孔徑 EUV 技術,但尚未做出最終決定。他強調了採用高數值孔徑 EUV 技術相關的經濟考慮,稱說「我喜歡這項技術,但我不喜歡標價。」

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High-NA EUV標價高

張曉強表示,在決定整合High-NA EUV時,必須在經濟可行性和技術進步之間實現最佳平衡,每個High-NA EUV工具的預期成本超過3.78億美元,與ASML售價2億歐元的常規EUV機器相比明顯增加。目前ASML 是歐洲最大的科技公司,主導著微影市場,微影工具是一種使用光束幫助創建晶片電路的機器。

微影製程

微影製程對於製造性能良好且節能的晶片非常重要,其就像在電腦晶片上繪製微小圖案的藍圖,當這些圖案更小時,晶片上就可以容納更多的零件,能加速晶片工作速度,消耗更少能量,讓手機和電腦等設備能運作得更好,一次充電的使用壽命更長。

參考資料:Reuters

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