台積電100台EUV 確保先進製程領導地位

編譯/莊閔棻

台積電在全球半導體產業中再創佳績,其EUV曝光機的全球市占率已達56%,彰顯了其在先進製程領域領導地位。低數值孔徑(NA)的EUV曝光機,是目前最昂貴的半導體製造設備之一,每台造價超過1億美元,而台積電對該設備的投資逐年增加,顯示其對新技術的積極部署。

台積電每年都投資數十億美元於設備和技術研發,確保先進製程領導地位。
台積電每年都投資數十億美元於設備和技術研發,確保先進製程領導地位。(圖/取自ASML官網)

十倍增長背後的持續投資

據報導,台積電的EUV設備數量,自2019年起實現了十倍成長,從僅數台增至2023年的超過100台,這樣的擴展使其在全球市場的占有率,從2020年的50%上升到如今的56%。台積電每年都投資數十億美元於設備和技術研發,確保其能在不斷變化的市場需求中保持競爭優勢。

更多新聞:台積電正在為2026的A16評估新NA EUV 曝光機

審慎引進高NA EUV技術

對於下一代高NA EUV技術,台積電採取審慎評估的策略。台積電回應媒體時表示,將根據高NA EUV的成熟度、成本和對客戶的潛在效益,評估是否將其納入大規模量產。該策略反映了台積電在技術創新上的謹慎態度,確保每一項技術革新都能帶來實質收益。

佔據先進製程領先地位

自2019年推出全球首個商業化EUV製程N7+以來,台積電不僅積極擴大其EUV設備規模,也不斷升級技術以滿足市場對高效能晶片的需求,台積電目前的N7+、N5及N3製程均廣泛運用了EUV技術,並正引領全球晶圓代工市場的先進製程需求。

分析師看法:進一步擴展供應鏈生態系

業內分析師認為,台積電的持續投資不僅將強化其自身的競爭力,也將有助於其供應鏈的整合與擴展。隨著全球半導體需求的增長,台積電的設備優勢使其能迅速回應市場需求,並進一步穩固其全球晶圓代工領域的領先地位。

台積電的競爭者與未來挑戰

值得注意的是,除台積電外,三星也正在其7LPP、5奈米及3奈米製程中運用EUV技術,並積極引入動態隨機存取記憶體(DRAM)生產領域。

參考資料:SCMP

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