華為公開麒麟2026新封裝技術 3D堆疊結合混合鍵合技術提升晶片效能

記者黃仁杰/編譯

儘管持續受到美國出口管制限制,無法取得先進EUV微影設備,華為仍持續推進晶片技術研發。華為近日在最新技術論文中公開新一代麒麟2026晶片的封裝設計,將導入混合鍵合(Hybrid Bonding)技術,結合3D堆疊架構(3D Stacking),希望透過先進封裝提升晶片效能、頻寬及能源效率,降低對先進製程的依賴。

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華為近日在最新技術論文中公開新一代麒麟 2026晶片的封裝設計,將導入混合鍵合技術,結合3D堆疊架構。(圖/AI生成)

3D堆疊提升晶體密度 降低對EUV依賴

華為先前於LogicFolding Design技術發表中,曾展示垂直堆疊晶片元件的概念,希望突破傳統平面晶片設計限制。

最新公開的論文進一步揭露,麒麟2026將採用混合鍵合技術,在不同晶片層之間建立高密度垂直互連(Vertical Interconnect),讓多層晶片直接堆疊整合。

相較傳統封裝方式,3D堆疊可提升電晶體密度,不必完全依賴更先進的微影製程,也能進一步提升晶片運算能力。

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縮短資料傳輸距離 提升AI運算效率

華為指出,透過混合鍵合,CPU、GPU、NPU、DRAM等元件可採垂直整合方式配置。

由於各元件之間距離從原本毫米等級縮短至微米等級,資料傳輸路徑大幅縮短,不僅可提高頻寬,也能降低訊號傳輸功耗。

這種設計特別適合裝置端AI(On-device AI)等高運算需求,可改善不同運算單元之間的資料交換效率,提升整體AI運算表現。

市場分析認為,在美國制裁下,華為目前仍主要依賴中芯國際7奈米製程,因此透過先進封裝提升效能,已成為突破製程限制的重要方向。

封裝技術成晶片競爭新焦點

除了華為之外,全球主要晶片廠近年也紛紛投入新一代封裝技術。

三星(Samsung)傳出將在Exynos 2700採用新的封裝設計,把DRAM與SoC分離配置,並新增Heat Pass Block銅質散熱模組,改善晶片散熱能力。

另一方面,蘋果(Apple)也傳出A20 Pro將改採晶圓級多晶片模組(Wafer-Level Multi-Chip Module,WMCM)封裝,使SoC可直接接觸大型均熱板(Vapor Chamber),進一步提升散熱效率。

業界普遍認為,隨著AI運算需求快速增加,傳統PoP(Package-on-Package)封裝已逐漸面臨散熱與頻寬瓶頸,先進封裝將成為未來行動晶片提升效能的重要關鍵。

來源:wccftech

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