三星布局量子運算晶片製造 結合AI優化微影製程
記者黃仁杰/編譯
三星電子正積極導入量子運算與人工智慧(AI)技術,開發新一代微影製程模擬平台,希望提升晶片良率與電晶體密度,進一步強化先進製程競爭力,縮小與台積電的差距。

根據韓國《首爾經濟日報》報導,三星目前正開發一套運用量子運算演算法的微影製程模擬技術,未來將結合AI自動分析與修正製程誤差,以降低晶片製造成本、縮短開發時間,同時提升先進製程良率。
微影製程是半導體製造流程中最關鍵的一環,也是決定先進製程能否成功量產的重要因素。
製程中,晶片電路圖樣需透過曝光機(Scanner)轉印至晶圓上,目前2奈米以下先進製程主要依賴荷蘭艾司摩爾(ASML)生產的極紫外光(EUV)曝光設備完成。
由於微影精度直接影響晶片良率及電晶體密度,因此一直是全球晶圓代工廠競爭焦點。
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報導指出,三星希望利用量子運算建立更精準的微影製程模擬模型,藉此預測曝光、蝕刻等製程可能產生的偏差。
完成模擬後,再透過AI自動辨識並修正製程缺陷,降低試產成本,並提升整體製程效率。
其中,良率代表每片晶圓中可正常運作晶片的比例;電晶體密度則是單位面積內可容納的電晶體數量,兩者都是衡量先進製程競爭力的重要指標。
消息人士透露,三星目前已完成相關核心演算法開發,預計最快明年進行概念驗證(Proof of Concept,PoC),確認量子運算是否能有效應用於微影製程模擬。
這項技術主要由三星旗下數位轉型公司Samsung SDS負責研發,若驗證成功,未來將交由三星電子導入實際晶片製造流程。
事實上,AI早已逐漸成為先進製程的重要工具。
台積電目前也已導入輝達(NVIDIA)AI平台,協助先進製程開發、製造優化及晶圓廠營運管理。
市場分析認為,若三星能成功將量子運算導入微影模擬,不僅可望縮短新製程開發時程,也有助於提升2奈米以下製程良率,進一步強化晶圓代工競爭力。
來源:wccftech
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