重磅亮點留給四曲面!iPhone Pro傳明年以超窄邊框亮相
記者孟圓琦/編譯
蘋果(Apple)下一代 iPhone Pro 機型傳出將迎來重大設計變革。根據韓國媒體《ETNews》最新報導,針對這款主打「近乎無邊框」設計與螢幕的新機,已揭露相關外觀與規格細節。

儘管 iPhone 18 Pro 剛於上週正式發表,且 iPhone Duo 也預計於下個月登場,但鑑於蘋果長期開發新機的時程規劃,有關明年新機的傳聞已陸續浮出檯面。長期以來,市場盛傳蘋果正為明年的 20 週年紀念款 iPhone Pro 機型打造獨特設計,而《ETNews》的最新報導則驗證了這一說法。
報導引述記者金永浩(Kim Yeong-ho,音譯)指出,蘋果「預計仍將推進四邊曲面螢幕的設計」,該設計旨在「透過將螢幕沿著智慧型手機的四個邊緣進行彎曲,營造出近乎無邊框的全螢幕視覺效果」。這意味著,先前美商華爾街投行傑富瑞(Jefferies)上個月所提出的疑慮並未發生,20 週年紀念款的核心設計特徵目前依然按計畫進行中。
不過,《ETNews》亦提到,先前曾考慮用於新款 iPhone Pro 機型 Grand 的兩項先進螢幕技術最終將不會採用。蘋果預計將延後導入封裝彩色濾光片(COE)以及超低溫多晶氧化物增強版(LTPO+)技術,這兩項技術原本有機會分別實現更薄的面板結構與更優異的能源效率。
業界消息人士分析,蘋果做出此決策主要出於兩大因素:首先是記憶體價格上漲,導致蘋果難以額外吸收螢幕升級成本;其次則是公司希望能尋求比現行 COE 及 LTPO+ 更佳的替代方案。
儘管這兩項螢幕技術的未導入可能對整體升級幅度影響有限,但對於消費者而言,最核心的亮點——全新的「近乎無邊框」設計得以完整保留,無疑仍是市場關注的焦點。
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資料來源:9to5mac
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